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弹性发射抛光
弹性发射抛光
弹性发射光学制造技术研究进展
2021年1月22日 本文总结了弹性发射加工技术的国内外研究现状及最新进展，归纳了弹性发射加工技术的原理，包含流体特性、抛光颗粒运动特性和化学特性，弹性发射加工装备，影响弹性发射加工技术表面粗糙度提升和材料去除效率的因 2021年9月18日 本文总结了弹性发射加工技术的国内外研究现状及最新进展，归纳了弹性发射加工技术的原理，包含流体特 性、抛光颗粒运动特性和化学特性，弹性发射加工装备，影响弹 李佳慧,侯溪,张云,王佳,钟显云 弹性发射光学制造技术研究 2006年5月22日 弹性发射加工是一种可以获得较高的加工精度和较低的表面粗糙度的超精密研磨方法。 其加工原理如图1 所示(图1 略)。 加工时使用聚氨脂球作加工头,在高速旋转的加工头与 超精密研磨抛光方法 bearing本文总结了弹性发射加工技术的国内外研究现状及最新进展,归纳了弹性发射加工技术的原理,包含流体特性、抛光颗粒运动特性和化学特性,弹性发射加工装备,影响弹性发射加工技术表面粗糙 ScienceChina 中国科学文献服务系统
弹性发射光学制造技术研究进展
2021年12月30日 弹性发射加工技术 (Elastic Emission Machining，EEM)是由日本大阪大学的Mori等人在20世纪70年代提出的一种原子量级的超光滑抛光技术。 基本原理如图1所示，光学 2021年10月7日 本文总结了弹性发射加工技术的国内外研究现状及最新进展，归纳了弹性发射加工技术的 原理，包含流体特性、抛光 颗粒运动特性和化学特性，弹性发射加工装备，影响弹 弹性发射光学制造技术研究进展光学加工与制造光行天下 2024年9月27日 基于球体弹性发射加工方式设计流体驱动抛光球，通过Fluent软件对抛光区流场仿真，分析了流体速度以及工件表面压力和剪切力分布，从抛光间隙、工具球直径及主轴转速 光学元件超光滑表面的流体动压抛光特性研究2021年2月22日 弹性发射 加工技术是一种去除函数稳定，超低亚表面缺陷，面向原子级的超光滑加工方法，可以作为加工上述精度要求光学元件 的手段。本文总结了弹性发射加工技术的国 弹性发射光学制造技术研究进展 百度文库
弹性发射加工材料去除的滚动模型分析,International Journal of
2023年6月25日 弹性发射加工（EEM）是获得超光滑表面的最有效技术之一。 抛光轮将抛光颗粒供给到工件表面的特定位置，与工件发生化学反应，实现材料的无损去除。2006年5月22日 21 基于机械作用的超精密研磨抛光方法 基于机械作用的超精密研磨抛光方法是依靠微细磨粒的机械作用对被加工表面 进行微量去除，达到高精度的加工表面。 211 弹性发射加工 弹性发射加工是一种可以获得较高的加工精度和较低的表面粗糙度的超精密研超精密研磨抛光方法 bearing2016年8月12日 21 基于机械作用的超精密研磨抛光方法 基于机械作用的超精密研磨抛光方法是依靠微细磨粒的机械作用对被加工表面进行微量往除，达到高精度的加工表面。 211 弹性发射加工 弹性发射加工是一种可以获得较高的加工精度和较低的表面粗糙度的超精密研磨超精密研磨抛光方法2021年12月30日 本文充分调研了弹性发射加工技术及装备的国内外研究现状并展望了未来的可能发展方向。2 弹性发射加工技术材料去除机理 弹性发射加工技术(Elastic Emission Machining，EEM)是由日本大阪大学的Mori等人在20世纪70年代提出的一种原子量级的超光滑抛光弹性发射光学制造技术研究进展
光学元件超光滑表面的流体动压抛光特性研究
2021年10月17日 流体动压抛光基于流体剪切效应可实现非接触微去除，可获得粗糙度1 nm以下的超光滑表面，在先进光学及微电子材料加工领域有很好应用前景。基于球体弹性发射加工方式设计流体驱动抛光球，通过Fluent软件对抛光区流场仿真，分析了流体速度以及工件表面压力和剪切力分布，从抛光间隙、工具球 2007年9月24日 通常高质量光滑表面的抛光是以沥青或纤维等弹性材料作磨盘，配以抛光液或研磨膏来达到技术要求。 近年来，光学及微电子学极大地推动了光学加工技术的发展。大规模或超大规模集成电路对所用基片 (通常为硅、锗等材料)的表面精度提出了很 浮法抛光技术—中国光学光电子行业网 COEMA2021年7月24日 弹性发射加工－EEM （Elastic Emission Machining ） 3 研磨的机理 由于工件、磨粒、研具和研磨液等的不同，上述三种研磨方法 的研磨表面状态也不同。表面的形成，是在产生切屑、研具的磨损 和磨粒破碎等综合在一起的复杂情况下进行的。 硬脆材料 第5章超精密研磨与抛光PPT课件百度文库本文介绍了气囊、磁流变、弹性发射、离子束等几种石英玻璃的精密抛光方法，侧重阐述了国内外等离子体的抛光技术，包括等离子体 辅助化学刻蚀、等离子体喷射加工、等离子化学蒸发加工研究进展及取得的成果；且对等离子体的未来发展进行概述 石英玻璃的等离子体抛光技术研究现状Research Status of
超光滑表面加工技术研究进展
2015年7月8日 Jeong[8]对弹性发射加工抛光区域的压力、速度进行分 析ꎬ并对磨粒运动进行模拟仿真以此来揭示材料的去 除机理ꎮKutbota等[9￣10]对弹性发射加工中磨粒的形 态对材料去除率的影响进行研究ꎬ结果表明磨粒相对借鉴弹性发射加工的去除原理,本文提出了一种新的超光滑表面加工方法——纳米颗粒胶体射流抛光方法。纳米颗粒胶体射流抛光方法将界面化学、流体动力学理论与光学加工方法相结合,提供了一种可以实现原子级去处的加工方法。纳米颗粒胶体射流抛光机理及试验研究 百度学术2024年6月17日 超光滑抛光光学元件福建福晶科技股份有限公司福晶科技晶体元件精密光学元件激光器件非线性光学晶体航空、激光和核聚变等领域的快速发展促使了对光学元件的指标要求越来越高，不仅要求各项光学指标达到极高 超光滑抛光光学元件福建福晶科技股份有限公司福 用于弹性发射中抛光压力的控制装置及抛光压力确定方法 CN61, [3] 李梦凡, 胡小川, 赵远程, 侯溪 一种光学元件表面缺陷高精度检测装置 CN59, [4] 赵远程, 胡小川, 李梦凡, 侯溪侯溪中国科学院大学UCAS
弹性发射加工材料去除的滚动模型分析,International Journal of
2023年6月25日 弹性发射加工（EEM）是获得超光滑表面的最有效技术之一。抛光轮将抛光颗粒供给到工件表面的特定位置，与工件发生化学反应，实现材料的无损去除。然而，抛光轮与浆料之间的相互作用以及原子去除机制仍不清楚。在这项研究中，在三维状态下考虑抛光轮和浆料之间的相互动态相互作用，并建立 2018年7月6日 光、弹性发射抛光、水面滑行抛光等众多抛光方 法[14￣17]ꎮ在当前的低弹性模量试样的原子级超光滑 表面的平面抛光方法中ꎬ浴法、浮法与弹性发射抛光更 具代表性ꎮ通过上述流体抛光的研究理论、技术方法线性液动压抛光装置设计及其动压力分布研究∗2019年6月2日 0 引言 为解决机械抛光和化学机械抛光过程中磨粒与工件表面刚性接触，造成抛光表面产生细微划痕以及损伤层的难题，国内外学者提出了弹性发射抛光、浮法抛光、动压浮离抛光等非接触抛光加工方法，有效改善了传统抛光加工的刚性接触状态，将磨粒与工件的接触转变为准接触或者非接触 [1]。液动压悬浮抛光流场的数值模拟及抛光工具盘结构优化弹性发射抛光 工作原理 抛光轮与工件表面形成 小间隙，中间置抛光液， 靠抛光轮高速回转造成 微粉(磨粒) 磨料的“弹性发射”进 行加工。 深度极小时的状态。 由于磨料处于游离状态，难以形成连续切削。 通过转动和加压，磨料与工件间存在断续研磨 第7章超精密研磨与抛光百度文库
我国突破纳米抛光新工艺中国科学院
2007年1月19日 目前，纳米级光滑表面的抛光加工方法有很多，如传统的机械干式抛光和湿式抛光、弹性发射抛光、动压浮离抛光、电场和磁场抛光、磁流变抛光(MRF)、湿式化学机械抛光、干式化学抛光、固着磨料抛光等。2021年10月7日 本文总结了弹性发射加工技术的国内外研究现状及最新进展，归纳了弹性发射加工技术的 原理，包含流体特性、抛光 颗粒运动特性和化学特性，弹性发射加工装备，影响弹性发射加工技术表面粗糙度提升和 材料 去除效率的因素，分析了弹性发射加工技术面临的弹性发射光学制造技术研究进展光学加工与制造光行天下 软质磨粒机械抛光（弹性发射加工） 最小切除可以达到原子级，直至切去一 层原子，而且被加工表面的晶格不致变形， 能够获得极小表面粗糙度和材质极纯的表面。 加工原理实质是磨粒原子的扩散作用和加速 的微小粒子弹性射击的机械作用的综合效果。第7章 精密研磨与抛光百度文库3 天之前 磁流变抛光技术研究进展 孙洹（图书馆） 引言 现代科学技术的发展对应用于各种光学系统中的光学元件提出了越来越高的要求。通常情况下，要求最终生产的光学元件具有高的面形精度、好的表面质量及尽量减少亚表面破坏层。磁流变抛光技术研究进展西安工业大学图书馆 XATU
《超精密加工技术》PPT课件百度文库
游离磨料加工 ★ 弹性发射加工 加压 抛光轮 工作原理（图13） 抛光轮与工件表面形 成小间隙，中间置抛 光液，靠抛光轮高速 回转造成磨料的“弹 性发射”进行加工。 微粉(磨粒) 抛光轮： 工件 悬浮液 小间隙 R 350 AA 64 R=05～12 50 B R 110～1200 B2017年7月4日 中科院长春光机所自上世纪九十年代起专注于 EUV/X 射线成像技术研究，着重开展了 EUV 光源、超光滑抛光技术、EUV 多层膜及相关 EUV 成像技术研究，形成了极紫外光学的应用技术基础。2002 年，研制国内第一套 EUV 光刻原理装置，实现了 EUV长春光机所承担的国家科技重大专项项目“极紫外光刻关键技术 2014年8月13日 非接触抛光 非接触抛光是指在抛光过程中工具与工间完全分离,直接利用抛光介质如抛 光液 中的游离磨粒,离子,电子等来对工件表面材料产生作用,实现材料微量去除 如液 体喷射抛光、离子束抛光、弹性发射加工等,因为抛光过程中工具与工件是 分离的, 且材料的去除弹性发射加工中磨粒群运动特性的研究（可编辑） 豆丁网2010年1月21日 132数控非球面柔性制造技术 数控加工设备的应用实现了非球面的快速成型、粗磨。CCSL、浅低温抛光、弹性发射加工抛光ElasticEmissionMachining简称EEM、磁流变。广州市久锐化工科技有限公司 主要有弹性发射加工EEM、浮动研磨、磁力研磨等。弹性发射加工eem设备
第7章超精密研磨与抛光百度文库
弹性发射抛光 工作原理 抛光轮与工件表面形成 小间隙，中间置抛光液， 靠抛光轮高速回转造成 微粉(磨粒) 磨料的“弹性发射”进 行加工。 抛光轮： 由聚氨基甲酸（乙）酯 制 成 ， 磨 料 直 径 01 ～ 001μm 加压 抛光轮 悬浮液 小间隙 工件 图 弹性发射加工原理磁流变抛光技术(Magnetorheological Finishing,MRF)是利用磁流变抛光液在磁场中流变性进行抛光的一种超精密加工方法。磁流变液主要由离散的微米级磁性颗粒、载液和表长面活性剂组成。具有磁特性、流变性和稳定性等特点。在无外加磁场时，磁性微粒无规则分布，磁流变液为可流动液体状态;而在外加 磁流变抛光技术 百度百科本文总结了弹性发射加工技术的国内外研究现状及最新进展，归纳了弹性发射加工技术的原理，包含流体特性、抛光颗粒运动特性和化学特性，弹性发射加工装备，影响弹性发射加工技术表面粗糙度提升和材料去除效率的因素，分析了弹性发射加工技术面临的中国光学（中英文）2024年6月17日 基于机械作用的超精密研磨抛光方法是依靠微细磨粒的机械作用对被加工表面 进行微量去除，达到高精度的加工表面。 211、弹性发射加工 弹性发射加工是一种可以获得较高的加工精度和较低的表面粗糙度的超精密研磨方法。几种超精密研磨抛光方法的加工原理、特点、加工对象和应用
弹性发射光学制造技术研究进展 道客巴巴
2021年11月12日 文章编号 0951531（01）05108915弹性发射光学制造技术研究进展李佳慧1，侯 溪1 *，张 云1，王 佳1，钟显云1（1 中国科学院光电技术研究所，四川 成都 61009； 中国科学院大学，北京 ）摘要：深紫外光刻、极紫外光刻和先进光源等现代光学工程需求牵引先进光学制造技术持续发展，要求超光滑 2006年5月22日 21 基于机械作用的超精密研磨抛光方法 基于机械作用的超精密研磨抛光方法是依靠微细磨粒的机械作用对被加工表面 进行微量去除，达到高精度的加工表面。 211 弹性发射加工 弹性发射加工是一种可以获得较高的加工精度和较低的表面粗糙度的超精密研超精密研磨抛光方法 bearing2016年8月12日 21 基于机械作用的超精密研磨抛光方法 基于机械作用的超精密研磨抛光方法是依靠微细磨粒的机械作用对被加工表面进行微量往除，达到高精度的加工表面。 211 弹性发射加工 弹性发射加工是一种可以获得较高的加工精度和较低的表面粗糙度的超精密研磨超精密研磨抛光方法2021年12月30日 本文充分调研了弹性发射加工技术及装备的国内外研究现状并展望了未来的可能发展方向。2 弹性发射加工技术材料去除机理 弹性发射加工技术(Elastic Emission Machining，EEM)是由日本大阪大学的Mori等人在20世纪70年代提出的一种原子量级的超光滑抛光弹性发射光学制造技术研究进展
光学元件超光滑表面的流体动压抛光特性研究
2021年10月17日 流体动压抛光基于流体剪切效应可实现非接触微去除，可获得粗糙度1 nm以下的超光滑表面，在先进光学及微电子材料加工领域有很好应用前景。基于球体弹性发射加工方式设计流体驱动抛光球，通过Fluent软件对抛光区流场仿真，分析了流体速度以及工件表面压力和剪切力分布，从抛光间隙、工具球 2007年9月24日 通常高质量光滑表面的抛光是以沥青或纤维等弹性材料作磨盘，配以抛光液或研磨膏来达到技术要求。 近年来，光学及微电子学极大地推动了光学加工技术的发展。大规模或超大规模集成电路对所用基片 (通常为硅、锗等材料)的表面精度提出了很 浮法抛光技术—中国光学光电子行业网 COEMA2021年7月24日 弹性发射加工－EEM （Elastic Emission Machining ） 3 研磨的机理 由于工件、磨粒、研具和研磨液等的不同，上述三种研磨方法 的研磨表面状态也不同。表面的形成，是在产生切屑、研具的磨损 和磨粒破碎等综合在一起的复杂情况下进行的。 硬脆材料 第5章超精密研磨与抛光PPT课件百度文库本文介绍了气囊、磁流变、弹性发射、离子束等几种石英玻璃的精密抛光方法，侧重阐述了国内外等离子体的抛光技术，包括等离子体 辅助化学刻蚀、等离子体喷射加工、等离子化学蒸发加工研究进展及取得的成果；且对等离子体的未来发展进行概述 石英玻璃的等离子体抛光技术研究现状Research Status of
超光滑表面加工技术研究进展
2015年7月8日 Jeong[8]对弹性发射加工抛光区域的压力、速度进行分 析ꎬ并对磨粒运动进行模拟仿真以此来揭示材料的去 除机理ꎮKutbota等[9￣10]对弹性发射加工中磨粒的形 态对材料去除率的影响进行研究ꎬ结果表明磨粒相对